Tytuł:

Investigation of the topography of magnetron-deposited Cu/Ni multilayers by X-ray reflectometry and atomic force microscopy

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Autor:

Kucharska, Barbara ; Kulej, Edyta ; Kanak, Jarosław

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Temat i słowa kluczowe:

optyka ; multilayers Cu/Ni ; X-ray reflectometry (XRR) ; atomic force microscopy (AFM) ; roughness

Opis:

Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 881-888

Abstrakt:

This paper presents the results of research of Cu/Ni multilayers magnetron-deposited on an Si (100) substrate. The thickness of Cu sublayers was identical in all multilayers and equalled 2 nm. The thickness of Ni sublayers varied between 1.2 and 3.0 nm. The surface topography of the multilayers was examined using the AFM (research of different areas). The interface roughness and period thickness were characterized by X-ray reflectometry (XRR). The roughness of the multilayers achieved by the XRR method was very similar for all 0.6 nm samples examined. However, the values of the roughness parameter Ra obtained by AFM examination were in the range of 0.09–0.32 nm, and depended on the size of the area examined. Based on the function obtained from the AFM measurements, taken on surface areas varying in size, an area of 1.5–4.0 cm2 was determined, for which an agreement between the roughness parameter, as determined by the AFM method, and the XRR method results would be expected.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2009

Typ zasobu:

artykuł

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska